专题文章:抛光树脂在半导体行业水处理的应用
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抛光树脂在半导体行业水处理中的应用主要涉及离子交换和深度除盐过程。这些树脂通常用于超纯水制备的最后阶段,以确保水质达到极高的标准。以下是抛光树脂在半导体行业水处理中的一些具体应用:
总之,抛光树脂在半导体行业的水处理中发挥着至关重要的作用,能够提供符合严格要求的超纯水,满足晶圆清洗、光刻、蚀刻等工艺的需求。
离子交换:
抛光树脂通过离子交换过程去除水中的离子,如钠、钙、镁、氯等。这种树脂内部含有可交换的离子,当含有这些离子的水流经过树脂床层时,树脂中的离子会与水中的离子发生交换,从而达到净化水质的目的。除盐:
在半导体工业中,需要去除水中几乎所有的盐分和其他杂质,以生产出高纯度的水。抛光树脂能够有效地吸附和去除这些微量离子,从而实现深度除盐。脱硅:
硅是水中常见的杂质之一,对于半导体工艺来说,即使是极低浓度的硅也可能对产品品质产生影响。抛光树脂可以有效去除水中的硅化合物,降低硅含量。有机物去除:
抛光树脂还具有一定的去除有机物的能力,这对于保证超纯水的品质非常重要,因为有机物可能会在半导体制造过程中引起不必要的化学反应。细菌控制:
一些特殊的抛光树脂还可以通过释放消毒剂(如银离子)来控制水中的细菌生长,进一步提高水质的安全性。
